RANCANG BANGUN ALAT SPUTTERING DC

Eko Suprayitno, - (2011) RANCANG BANGUN ALAT SPUTTERING DC. S1 thesis, Universitas Pendidikan Indonesia.

Abstract

Penumbuhan lapisan film tipis dengan metode sputtering DC merupakan salah satu metode penumbuhan lapisan film tipis secara fisika. Pada penelitian ini akan diperoleh alat sputtering DC sederhana. Chamber vakum alat sputtering DC dibuat berbentuk tabung yang terbuat dari silinder kaca dan ditutup dengan pelat stainless steel. Anoda dan katoda alat sputtering DC dibuat dari dua buah pelat silinder stainless steel yang dihubungkan pada catu daya tegangan DC. Anoda alat sputtering DC dilengkapi heater yang terbuat kawat nikelin dengan diameter 0,5 mm sepanjang 3 m yang mampu mencapai suhu 600oC. Chamber atau tabung vakum divakumkan dengan menggunakan pompa vakum EDWARDS 18 dengan tekanan vakum maksimum 5,8 x 10-1 mBar atau 4,35 x 10-1 Torr selama selang waktu 20 menit. Sebagai media pembentuk plasma dialirkan gas argon UHP ke dalam chamber vakum dan diberikan tegangan listrik pembangkit plasma argon sebesar 230 - 420 VDC.

	Text s_fis_056333_table_of_content.pdf Download (248kB)
	Text s_fis_056333_chapter1.pdf Download (255kB)
	Text s_fis_056333_chapter2.pdf Restricted to Staf Perpustakaan Download (1MB)
	Text s_fis_056333_chapter3.pdf Download (1MB)
	Text s_fis_056333_chapter4.pdf Restricted to Staf Perpustakaan Download (420kB)
	Text s_fis_056333_chapter5.pdf Download (248kB)
	Text s_fis_056333_bibliography.pdf Download (244kB)

Item Type:	Thesis (S1)
Additional Information:	ID SINTA Dosen Pembimbing Andhy Setiawan: 6040311
Uncontrolled Keywords:	Sputtering DC, argon.
Subjects:	L Education > L Education (General) Q Science > QC Physics
Divisions:	Fakultas Pendidikan Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam > Program Studi Fisika - S1 > Program Studi Pendidikan Fisika
Depositing User:	Adika Subangkit
Date Deposited:	16 Nov 2023 04:28
Last Modified:	16 Nov 2023 04:28
URI:	http://repository.upi.edu/id/eprint/111673

Actions (login required)

View Item